정부는 우리나라의 반도체(국가전략기술)에 대한 세제지원은 주요국에 비해 높은 편이라고 11일 밝혔다.

최근 한 언론에서 삼성전자가 20조원을 투입하는 경기 용인 기흥 연구개발 단지 등 반도체 R&D용 시설·장비 투자의 국내 세액공제율(1%)이 미국(25%)의 25분의 1에 불과한 것으로 나타났다는 보도관련 이같이 밝힌 것이다.

기재부는 이처럼 미국에서 5조원을 돌려받지만 한국에서는 2000억원만 공제받는다는 일부의 주장에 대해 “미국은 반도체 제조장비에 25% 세액공제를 적용하는 것이며, 이는 우리나라의 사업화시설 세액공제(기본공제 15%+증가분 10%)에 해당한다”고 밝혔다.

그러면서 “미국은 연구개발세액공제 대상에서도 감가상각 대상 시설 또는 장치에서 발생한 비용은 적용대상에서 제외한다”며 “미국은 연구개발 자산에 대해 5년 상각제도를 적용하고 있다”고 설명했다.

우리나라는 반도체 연구개발 시설장비에 통합투자세액공제를 적용하고 있으며, 법인세법상 5년 가속상각제도와 선택해 적용한다.

대기업의 경우 연구시설에 대한 투자세액공제는 기본공제 1%+증가분 3% 세액공제를 적용하고 있다.

또한 기재부는 우리나라가 국가전략기술에 대해 미국, 일본에 비해 매우 높은 수준으로 연구개발비 세액공제를 적용하고 있다고도 덧붙였다.

미국은 당기 비용기준 50% 초과액에 20%를 적용하므로 당기분 환산시 10%에 불과하나 우리나라는 최소 3배(30%~40%)이상의 세액공제를 적용한다.

일본은 당기 비용의 최대 14%를 적용하므로 우리나라는 최소 2배 이상의 세액공제를 적용한다. 게다가 일본은 연구개발시설 및 반도체 시설투자에 대해 세액공제 제도가 없다. `24년 반도체 생산세액공제를 도입해 투자시점이 아닌 가동 후 생산 판매시점부터 적용하며, 당해연도 납부할 세액의 20%를 한도로 적용한다. 이월공제기간은 3년이다.

대만은 첨단 공정용 설비투자액의 5%를 세액공제(법인세액의 30%한도)하고 있어 우리나라의 사업화 시설 투자세액공제에 비해 공제율이 낮다.